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CIOE中國光博會(huì)熱力來襲，優(yōu)尼康邀您共赴盛會(huì)！

2024-08-22 10:36:53 admin

本屆CIOE中國光電博覽會(huì)匯聚了來自全球超30個(gè)國家和地區(qū)的超3700家的優(yōu)質(zhì)參展企業(yè)，作為覆蓋光電全產(chǎn)業(yè)鏈的綜合型展會(huì)，覆蓋信息通信、精密光學(xué)、攝像頭技術(shù)及應(yīng)用、激光及智能制造、紅外、紫外、智能傳感、新型顯示等板塊。優(yōu)尼康將參展第二十五屆中國光電博覽會(huì)！

誠邀您蒞臨觀展

優(yōu)尼康將攜多款膜厚儀參展

期待與您現(xiàn)場(chǎng)探討膜厚測(cè)量的種種應(yīng)用！

現(xiàn)場(chǎng)還有更多趣味互動(dòng)，等你贏獎(jiǎng)品～

優(yōu)尼康在深圳國際會(huì)展中心3號(hào)館

展館預(yù)覽圖

優(yōu)尼康展位3B22

展位預(yù)覽

更多驚喜活動(dòng)逐步解鎖中

100%中獎(jiǎng)概率？趣味獎(jiǎng)品？參與可得！

參展設(shè)備


F50 膜厚測(cè)量?jī)x
F50可以非常簡(jiǎn)單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以快速定位所需的測(cè)試點(diǎn)并且實(shí)時(shí)獲得測(cè)試厚度，大約每秒測(cè)試兩點(diǎn)。
相關(guān)應(yīng)用：半導(dǎo)體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜）；光學(xué)鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)（光刻膠、硅系膜層）。


P7 臺(tái)階儀
P-7可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量，其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接。
相關(guān)應(yīng)用：薄膜/厚膜臺(tái)階；蝕刻深度量測(cè)；光阻/光刻膠臺(tái)階；柔性薄膜；表面粗糙度/平整度表征；表面曲率和輪廓分析；薄膜的2D stress量測(cè)；表面結(jié)構(gòu)分析；表面的3D輪廓成像；缺陷表征和缺陷分析。


F54-XY-200 薄膜厚度測(cè)量?jī)x
F54-XY-200配備自動(dòng)化薄膜厚度繪圖系統(tǒng)，借助F54-XY-200先進(jìn)的光譜反射系統(tǒng)，可以快速輕松地測(cè)量最大200 x 200mm樣品的薄膜厚度。
相關(guān)應(yīng)用：半導(dǎo)體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜）；光學(xué)鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)（光刻膠、硅系膜層）。


Profilm3D 白光干涉光學(xué)輪廓儀
Profilm3D 使用最先進(jìn)的垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強(qiáng)大的性價(jià)比實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。
相關(guān)應(yīng)用：粗糙度測(cè)量;三維形貌表征;臺(tái)階高度測(cè)量


FS-1 多波長(zhǎng)橢偏儀
Film Sense FS-1多波長(zhǎng)橢偏儀采用壽命長(zhǎng) LED 光源和非移動(dòng)式部件橢偏探測(cè)器，可在操作簡(jiǎn)單的緊湊型橢偏儀中實(shí)現(xiàn)可靠地薄膜測(cè)量。
相關(guān)應(yīng)用：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠。高和低指數(shù)薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機(jī)薄膜（OLED 技術(shù)）等