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【參展信息】優(yōu)尼康邀您相約上海新國際博覽中心

2024-03-14 16:51:32 admin
邀請(qǐng)函頭圖.png

2024 SEMICON CHINA 與慕尼黑上海光博會(huì)將同期在上海新國際博覽中心舉辦,優(yōu)尼康將攜帶多臺(tái)設(shè)備參加此次盛會(huì)。您可以掃描文章下方二維碼,提前進(jìn)行在線預(yù)約報(bào)名。期待和您現(xiàn)場相遇,我們現(xiàn)場準(zhǔn)備了諸多精美小禮品等你來領(lǐng)取。

圖片關(guān)鍵詞



SEMICON CHINA

展位號(hào):N1館1671



慕尼黑上海光博會(huì)

展位號(hào):W4館4168

圖片關(guān)鍵詞
圖片關(guān)鍵詞


展館平面圖

圖片關(guān)鍵詞

SEMI展會(huì)預(yù)約

圖片關(guān)鍵詞

慕尼黑展會(huì)預(yù)約

可掃描上方二維碼預(yù)約參觀

期待您的到來?。?/strong>

圖層 11.png

參展設(shè)備

高清大圖 (1).jpg

Filmetrics F50膜厚測量儀

F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái),可以快速定位所需的測試點(diǎn)并且實(shí)時(shí)獲得測試厚度,大約2點(diǎn)/秒。

相關(guān)應(yīng)用:半導(dǎo)體制造(光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜);光學(xué)鍍膜(硬涂層、抗反射層);MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)(光刻膠、硅系膜層)。


資源 1.png

Bowman XRF鍍層測厚儀

在高度不超過9英寸的工件上具有優(yōu)于同類產(chǎn)品的 12 x12英寸可測量區(qū)域。自動(dòng)多準(zhǔn)直器允許選擇光斑尺寸,以適應(yīng)各種特征尺寸;可變焦攝像頭允許在 0.25 英寸到3.5 英寸的焦距范圍內(nèi)進(jìn)行測量。


相關(guān)應(yīng)用:材料折射率消光系數(shù)測試;硅片自然氧化層厚度測試;光刻膠光學(xué)常數(shù)測試;半導(dǎo)體后段封裝硅上金屬厚度測量


圖片關(guān)鍵詞

Lumina AT2缺陷檢測儀

薄膜缺陷檢測儀實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。


相關(guān)應(yīng)用:所有缺陷類型;薄厚基板;透明和不透明基板;電介質(zhì)涂層;金屬涂層;鍵合硅片;開發(fā)和在線生產(chǎn)


更多機(jī)型現(xiàn)場等您體驗(yàn)。。。



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